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PVD镀膜蒸发镀与溅射镀工艺与区别解读

发布时间:2019-12-02

  在手机盖板领域,PVD镀膜装饰工艺的应用越来越广,无论在金属、玻璃、陶瓷及复合材料后盖上,都需要PVD镀膜,来提升手机盖板的颜值及逼格,那么如何通过镀膜来提升产品的靓丽与品位呢?有哪些主流的工艺?今天我们来了解一下。

  PVD镀膜主要分为蒸发镀、溅射镀和离子镀。今天,我们主要来比较一下蒸发镀与溅射镀。

  蒸发镀膜,是将膜料加热蒸发为气相后沉积到衬底表面,此种成膜方式决定了蒸发出的粒子能量只能在 0.1-0.3ev,原子动能太低,填充密度太低。

  磁控溅射镀膜,通过在靶材与真空室壁之间施加电场,使氩气电离,并使氩离子加速撞击靶材表面。靶材被亚离子撞击,靶材原子溢出并以数十甚至上百电子伏特的动能飞向被镀基片表面并沉积在基底表面,原子动能较蒸发高出两个数量级,填充密度高达98%,折射率高且稳定。

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